Anwendungen für Abgasreinigung
Anwendungen zur Reinigung von schädlichen Industrieabgasen sind unsere Kernkompetenz. Vom Plasmaätzen über die Photovoltaik bis hin zur Versorgung mit speziell entwickelten Granulaten unterstützen unsere Lösungen alle relevanten Produktionsprozesse unserer Kunden.
Damit leistet CS CLEAN SOLUTIONS einen wesentlichen Beitrag zur Neutralisierung schädlicher Gase aus der Arbeitsumgebung und dem Ökosystem.
Die Tabelle „Anwendungen Abgasreinigung“ gibt einen Überblick über industrielle Fertigungsprozesse aus der Photovoltaik-, Chemie- und Halbleiterindustrie mit den zugehörigen Prozessgasen.
| Prozessapplikation | Typische Gase und flüssige Precursoren |
|---|---|
| Plasmaätzen | |
| Metall Ätzen | Cl2, BCl3, HCl, CF4, SF6 |
| Polysilizium Ätzen | Cl2, HBr, Br2, SF6, CF4, NF3, C4F8 |
| Nitrid Ätzen, Oxid Ätzen | CF4, CHF3, C2F6, C3F8, C4F8, CH2F2, NF3, |
| SF6, O2 | |
| Wolfram Ätzen | SF6 |
| Ionenimplantation | |
| Hoch-, Mittel-, Schwachstrom | AsH3, PH3, BF3, P, As, Sb, Sb(CH3)3, GeH4, GeF4 |
| ALD, LPCVD, PECVD, HDP-CVD | |
| TEOS, undotiert | TEOS, O2, O3 |
| BPSG | TEOS, O3, TMP, TMB, SiH4, PH3, B2H6 |
| Poly-Si (dotiert) | SiH4, (AsH3, PH3) |
| Silizium-Germanium | SiH4, GeH4 |
| Oxid | SiH4, O2 |
| Nitrid, dotiert | SiH4, NH3, (TMP, TMB, SiH4, PH3, B2H6) |
| Oxinitrid, dotiert | SiH4, NH3, N2O, (TMP, TMB, SiH4, PH3, B2H6) |
| Low-k Dielectrika | 1MS, 2MS, 3MS, 4MS, DMDMOS |
| High-k Dielectrika | TMA, TEMAH, TDEAH, TAETO, PET |
| Gate-Elektroden | MPA, Ru(Etcp)2, PEMAT |
| Kupfer-CVD | Cu(hfac)(TMVS) |
| Wolfram (-silizid) | WF6, SiH4, H2, (DCS) |
| Sperrschichten | TiCl4, NH3, TDMAT, PDMATa, PDEATa, |
| TAETO, W(CO)6 | |
| Kammerreinigung | |
| PFC Plasma | C2F6, C4F8, NF3 |
| NF3 Remote Plasma | F2 |
| Epitaxie | |
| Silizium (dotiert) | DCS, TCS, SiH4, (AsH3, PH3, B2H6) |
| Silizium-Germanium | SiH4, GeH4, CBr4, 1MS, 2MS, 3MS, HCl |
| Silizium-Carbid (SiC) | SiH4, CH4, C3H8, TMA, HCl |
| Verbindungshalbleiter, Optoelektronik, III-V auf Si | |
| GaAs, InP MOVPE (MOCVD) | TMGa, AsH3, TBA, TMIn, PH3, TBP |
| GaN MOVPE (MOCVD) | TMGa, NH3, UDMH |
| MBE (MOMBE) | As, P, AsH3, PH3 |
| III-V Ätzen | Cl2, BCl3, HBr, SiF4, SF6, CH4, GaCl3, InCl3, AsH3, O2 |
| Photovoltaik | |
| Konzentrator-Photovoltaik | PH3, AsH3, Metallorganika, SiH4, GeH4 |
| CIGS | H2S, H2Se |
| Gasversorgung | |
| Notfallabsorber | Toxisch, selbstentzündlich, korrosiv |
| Spülgasentsorgung | |
