Schadgas Entsorung für ALE (Atomic Layer Etching)

Schadgas Entsorgung für die Trockenätz-Technologie:

Mit ALE lassen sich Halbleiterstrukturen auf atomarer Ebene mit Industriegasen ätzen. Daher ist das Verfahren zum Beispiel relevant für die Ar-Entsorgung, F2-Entsorgung. Ähnlich der ALD-Technik werden Ätzgase in wechselnder Sequenz in die Ätzkammer eingebracht. Dies unterscheidet das ALE-Verfahren vom herkömmlichen Plasmaätzen.

Analog zum ALD-Verfahren wiederholen sich auch hier die Prozesszyklen, wobei sich auf der Substrat-Oberfläche eine Monomolekulare Schicht bildet.
Hierbei werden teils toxische Gase eingesetzt wie auch beim konventionellen RIE-Ätzverfahren, also zum Beispiel Ar, F₂, Cl₂, BCl₃, HBr.