CLEANSORB 干式吸收器的气体滞留性能*

气体或液体前驱物化学分子式出口浓度
NH320 ppm
AsH30.05 ppm
二(环戊二烯基)镁Mg(C5H5)23 mg/m3 (MgO)
二(叔丁基氨基)硅烷SiH2(NHC4H9)25 ppm (SiH4)
三溴化硼BBr31 ppm
三氯化硼BCl31 ppm
三氟化硼BF30.35 ppm
溴气Br20.1 ppm
一氧化碳CO30 ppm
氯气Cl20.5 ppm
三氟化氯ClF30.1 ppm
六羰基铬Cr(CO)62 mg/m3 (MgO)
乙硼烷B2H60.1 ppm
二氯硅烷SiH2Cl22 ppm (HCl)
二乙碲Te(C2H5)20.1 mg/m3 (Te)
二乙胺C4H11N5 ppm
二乙基锌Zn(C2H5)22 mg/m3 (Zn)
乙锗烷Ge2H60.2 ppm (GeH4)
二甲基二甲氧基硅烷Si(CH3)2(OCH3)25 ppm (SiH4)
二甲基硅烷SiH2(CH3)25 ppm (SiH4)
二甲碲Te(CH3)20.1 mg/m3 (Te)
二甲胺C2H7N2 ppm
二甲基镉Cd(CH3)20.01 mg/m3 (Cd)
二甲基肼 (UDMH)N2H2(CH3)20.01 ppm
二甲基锌Zn(CH3)22 mg/m3 (Zn)
乙硅烷Si2H65 ppm
乙基甲基胺C3H9N2 ppm(二甲胺)
F21 ppm
羰基氟/碳酰氟COF21 ppm (HF)
甲醛CH2O0.3 ppm
锗烷GeH40.2 ppm
联氨N2H40.01 ppm
溴化氢HBr1 ppm
氯化氢HCl2 ppm
氟化氢HF1 ppm
硒化氢H2Se0.015 ppm
硫化氢H2S5 ppm
碘气I20.1 ppm
甲基三氯硅烷CH3SiCl32 ppm (HCl)
单甲基硅烷SiH3CH35 ppm (SiH4)
一氧化氮NO25 ppm
二氧化氮N2O4 (NO2)3 ppm
五(二甲氨基)钽 (PDMATa)Ta(N(CH3)2)52 ppm(二甲胺)
光气COCl20.02 ppm
磷化氢PH30.1 ppm
五氯化磷PCl51 mg/m3
三溴化磷PBr30.5 ppm
三氯化磷PCl30.5 ppm
三氟化磷PF33 ppm
磷酰氯POCl30.2 ppm
二茂钌C10H10Ru20 mg/m3 (Ru)
硅烷SiH45 ppm
锑化三氢SbH30.1 ppm
二氧化硫SO20.5 ppm
乙醇钽Ta(OC2H5)520 mg/m3 (Ta2O5)
五氯化钽TaCl52 ppm (HCl)
五氟化钽TaF51 ppm (HF)
六氟化碲TeF60.02 ppm
酞菁二钠 (TBA)AsH2(C4H9)0.01 mg/m3 (As)
叔丁基磷 (TBP)PH2(C4H9)0.1 ppm (PH3)
四溴化碳CBr41 ppm (HBr)
四羰基镍Ni(CO)40.2 mg/m3 (Ni)
四氯化硅SiCl42 ppm (HCl)
硅酸四乙酯Si(OC2H5)410 ppm
四氟化硅SiF41 ppm (HF)
四(二乙氨基)铪 (TDMAHf)Hf(N(CH3)2)42 ppm(二甲胺)
四(二乙氨基)钛 (TDMATi)Ti(N(CH3)2)42 ppm(二甲胺)
四(二乙氨基)锆 (TDMAZr)Zr(N(CH3)2)42 ppm(二甲胺)
四(乙基甲基氨基)铪 (TEMAHf)Hf(NC2H5CH3)42 ppm(二甲胺)
四(乙基甲基氨基)锆 (TEMAZr)Zr(NC2H5CH3)42 ppm(二甲胺)
四氯化钛TiCl42 ppm (HCl)
四氟化钛TiF41 ppm (HF)
三氯氢硅SiHCl32 ppm (HCl)
三乙基铝Al(C2H5)32 mg/m3 (Al)
三乙基硼B(C2H5)30.5 mg/m3 ( H3BO3)
三乙基镓Ga(C2H5)33 mg/m3 (Ga2O3)
三乙基铟In(C2H5)30.1 mg/m3 (In)
三乙基磷酸酯PO(C2H5O)350 mg/m3
亚磷酸三甲酯C3H9O3P2 ppm
三甲基铝 (TMAl)Al(CH3)32 mg/m3 (Al)
三甲基锑Sb(CH3)30.5 mg/m3 (Sb)
三甲基硼B(CH3)30.1 ppm
三甲基镓 (TMGa)Ga(CH3)33 mg/m3 (Ga2O3)
三甲基铟 (TMIn)In(CH3)30.1 mg/m3 (In)
丙硅烷Si3H85 ppm (SiH4)
六羰基钨W(CO)65 mg/m3 (W)
六氟化钨WF61 ppm (HF)
二氟化氙XeF21 ppm (F2)

* 系统规格基于各个工艺应用的审核和批准