CLEANSORB 干式吸收器的气体滞留性能*

气体或液体前驱物 化学分子式 出口浓度
NH3 20 ppm
AsH3 0.05 ppm
二(环戊二烯基)镁 Mg(C5H5)2 3 mg/m3 (MgO)
二(叔丁基氨基)硅烷 SiH2(NHC4H9)2 5 ppm (SiH4)
三溴化硼 BBr3 1 ppm
三氯化硼 BCl3 1 ppm
三氟化硼 BF3 0.35 ppm
溴气 Br2 0.1 ppm
一氧化碳 CO 30 ppm
氯气 Cl2 0.5 ppm
三氟化氯 ClF3 0.1 ppm
六羰基铬 Cr(CO)6 2 mg/m3 (MgO)
乙硼烷 B2H6 0.1 ppm
二氯硅烷 SiH2Cl2 2 ppm (HCl)
二乙碲 Te(C2H5)2 0.1 mg/m3 (Te)
二乙胺 C4H11N 5 ppm
二乙基锌 Zn(C2H5)2 2 mg/m3 (Zn)
乙锗烷 Ge2H6 0.2 ppm (GeH4)
二甲基二甲氧基硅烷 Si(CH3)2(OCH3)2 5 ppm (SiH4)
二甲基硅烷 SiH2(CH3)2 5 ppm (SiH4)
二甲碲 Te(CH3)2 0.1 mg/m3 (Te)
二甲胺 C2H7N 2 ppm
二甲基镉 Cd(CH3)2 0.01 mg/m3 (Cd)
二甲基肼 (UDMH) N2H2(CH3)2 0.01 ppm
二甲基锌 Zn(CH3)2 2 mg/m3 (Zn)
乙硅烷 Si2H6 5 ppm
乙基甲基胺 C3H9N 2 ppm(二甲胺)
F2 1 ppm
羰基氟/碳酰氟 COF2 1 ppm (HF)
甲醛 CH2O 0.3 ppm
锗烷 GeH4 0.2 ppm
联氨 N2H4 0.01 ppm
溴化氢 HBr 1 ppm
氯化氢 HCl 2 ppm
氟化氢 HF 1 ppm
硒化氢 H2Se 0.015 ppm
硫化氢 H2S 5 ppm
碘气 I2 0.1 ppm
甲基三氯硅烷 CH3SiCl3 2 ppm (HCl)
单甲基硅烷 SiH3CH3 5 ppm (SiH4)
一氧化氮 NO 25 ppm
二氧化氮 N2O4 (NO2) 3 ppm
五(二甲氨基)钽 (PDMATa) Ta(N(CH3)2)5 2 ppm(二甲胺)
光气 COCl2 0.02 ppm
磷化氢 PH3 0.1 ppm
五氯化磷 PCl5 1 mg/m3
三溴化磷 PBr3 0.5 ppm
三氯化磷 PCl3 0.5 ppm
三氟化磷 PF3 3 ppm
磷酰氯 POCl3 0.2 ppm
二茂钌 C10H10Ru 20 mg/m3 (Ru)
硅烷 SiH4 5 ppm
锑化三氢 SbH3 0.1 ppm
二氧化硫 SO2 0.5 ppm
乙醇钽 Ta(OC2H5)5 20 mg/m3 (Ta2O5)
五氯化钽 TaCl5 2 ppm (HCl)
五氟化钽 TaF5 1 ppm (HF)
六氟化碲 TeF6 0.02 ppm
酞菁二钠 (TBA) AsH2(C4H9) 0.01 mg/m3 (As)
叔丁基磷 (TBP) PH2(C4H9) 0.1 ppm (PH3)
四溴化碳 CBr4 1 ppm (HBr)
四羰基镍 Ni(CO)4 0.2 mg/m3 (Ni)
四氯化硅 SiCl4 2 ppm (HCl)
硅酸四乙酯 Si(OC2H5)4 10 ppm
四氟化硅 SiF4 1 ppm (HF)
四(二乙氨基)铪 (TDMAHf) Hf(N(CH3)2)4 2 ppm(二甲胺)
四(二乙氨基)钛 (TDMATi) Ti(N(CH3)2)4 2 ppm(二甲胺)
四(二乙氨基)锆 (TDMAZr) Zr(N(CH3)2)4 2 ppm(二甲胺)
四(乙基甲基氨基)铪 (TEMAHf) Hf(NC2H5CH3)4 2 ppm(二甲胺)
四(乙基甲基氨基)锆 (TEMAZr) Zr(NC2H5CH3)4 2 ppm(二甲胺)
四氯化钛 TiCl4 2 ppm (HCl)
四氟化钛 TiF4 1 ppm (HF)
三氯氢硅 SiHCl3 2 ppm (HCl)
三乙基铝 Al(C2H5)3 2 mg/m3 (Al)
三乙基硼 B(C2H5)3 0.5 mg/m3 ( H3BO3)
三乙基镓 Ga(C2H5)3 3 mg/m3 (Ga2O3)
三乙基铟 In(C2H5)3 0.1 mg/m3 (In)
三乙基磷酸酯 PO(C2H5O)3 50 mg/m3
亚磷酸三甲酯 C3H9O3P 2 ppm
三甲基铝 (TMAl) Al(CH3)3 2 mg/m3 (Al)
三甲基锑 Sb(CH3)3 0.5 mg/m3 (Sb)
三甲基硼 B(CH3)3 0.1 ppm
三甲基镓 (TMGa) Ga(CH3)3 3 mg/m3 (Ga2O3)
三甲基铟 (TMIn) In(CH3)3 0.1 mg/m3 (In)
丙硅烷 Si3H8 5 ppm (SiH4)
六羰基钨 W(CO)6 5 mg/m3 (W)
六氟化钨 WF6 1 ppm (HF)
二氟化氙 XeF2 1 ppm (F2)

* 系统规格基于各个工艺应用的审核和批准