CLEANSORB 건식 베드 흡착제의 가스 보존 성능*

가스 또는 액체 전구체 종류 화학식 배출구 농도
암모니아 NH3 20ppm
아르신 AsH3 0.05ppm
Bis(cyclopentadienyl)magnesium Mg(C5H5)2 3mg/m3(MgO)
Bis(tert-butylamino)silane SiH2(NHC4H9)2 5ppm(SiH4)
삼브롬화붕소 BBr3 1ppm
삼염화붕소 BCl3 1ppm
삼플루오르화붕소 BF3 0.35ppm
브롬 Br2 0.1ppm
일산화탄소 CO 30ppm
염소 Cl2 0.5ppm
삼플루오르화염소 ClF3 0.1ppm
크롬 헥사카르보닐 Cr(CO)6 2mg/m3(Cr)
다이보레인 B2H6 0.1ppm
디클로로실란 SiH2Cl2 2ppm(HCl)
디에틸 텔룰라이드 Te(C2H5)2 0.1mg/m3(Te)
디에틸아민 C4H11N 5ppm
디에틸아연(DEZn) Zn(C2H5)2 2mg/m3(Zn)
다이게르만 Ge2H6 0.2ppm(GeH4)
디메틸 디메톡시 실란 Si(CH3)2(OCH3)2 5ppm(SiH4)
디메틸 실란 SiH2(CH3)2 5ppm(SiH4)
디메틸 텔룰라이드 Te(CH3)2 0.1mg/m3(Te)
디메틸라민 C2H7N 2ppm
디메틸카드뮴 Cd(CH3)2 0.01mg/m3(Cd)
디메틸히드라진(UDMH) N2H2(CH3)2 0.01ppm
디메틸아연 Zn(CH3)2 2mg/m3(Zn)
디실란 Si2H6 5ppm
에틸메틸아민 C3H9N 2ppm(디메틸아민)
플루오르 F2 1ppm
플루오로포스젠/플루오르화 카르보닐 COF2 1ppm(HF)
포름알데히드 CH2O 0.3ppm
게르만 GeH4 0.2ppm
하이드라진 N2H4 0.01ppm
브롬화수소 HBr 1ppm
염화수소 HCl 2ppm
플루오르화수소 HF 1ppm
셀렌화수소 H2Se 0.015ppm
황화수소 H2S 5ppm
요오드 I2 0.1ppm
메틸트리클로로실란 CH3SiCl3 2ppm(HCl)
모노메틸실란 SiH3CH3 5ppm(SiH4)
일산화질소 NO 25ppm
이산화질소 N2O4 (NO2) 3ppm
Pentakis(dimethylamino)tantalum(PDMATa) Ta(N(CH3)2)5 2ppm(디메틸아민)
포스겐 COCl2 0.02ppm
포스핀 PH3 0.1ppm
오염화인 PCl5 1mg/m3
삼브롬화인 PBr3 0.5ppm
삼염화인 PCl3 0.5ppm
삼플루오르화인 PF3 3ppm
염화포스포릴 POCl3 0.2ppm
루테노센 C10H10Ru 20mg/m3(Ru)
실란 SiH4 5ppm
스티빈 SbH3 0.1ppm
이산화황 SO2 0.5ppm
탄탈럼 에톡시드 Ta(OC2H5)5 20mg/m3(Ta2O5)
오염화탄탈룸 TaCl5 2ppm(HCl)
오플루오르화탄탈룸 TaF5 1ppm(HF)
육플루오르화텔루륨 TeF6 0.02ppm
터티아리부틸아르신(TBA) AsH2(C4H9) 0.01mg/m3(As)
터티아리부틸포스핀(TBP) PH2(C4H9) 0.1ppm(PH3)
테트라브로모메탄 CBr4 1ppm(HBr)
테트라카르보닐니켈 Ni(CO)4 0.2mg/m3(Ni)
테트라클로실란 SiCl4 2ppm(HCl)
테트라에틸오소실리케이트 Si(OC2H5)4 10ppm
테트라플루오로실란 SiF4 1ppm(HF)
테트라키스(디메틸아미노)하프늄(TDMAHf) Hf(N(CH3)2)4 2ppm(디메틸아민)
테트라키스(디메틸아미노)티타늄(TDMATi) Ti(N(CH3)2)4 2ppm(디메틸아민)
테트라키스(디메틸아미노)지르코늄(TDMAZr) Zr(N(CH3)2)4 2ppm(디메틸아민)
테트라키스(에틸메틸아미노)하프늄(TEMAHf) Hf(NC2H5CH3)4 2ppm(디메틸아민)
테트라키스(에틸메틸아미노)지르코늄(TEMAZr) Zr(NC2H5CH3)4 2ppm(디메틸아민)
사염화 티타늄 TiCl4 2ppm(HCl)
사플루오르화 티타늄 TiF4 1ppm(HF)
트리클로로실란 SiHCl3 2ppm(HCl)
트리에틸알루미늄 Al(C2H5)3 2mg/m3(Al)
트리에틸 보란 B(C2H5)3 0.5mg/m3( H3BO3)
트리에틸갈륨 Ga(C2H5)3 3mg/m3(Ga2O3)
트리에틸인듐 In(C2H5)3 0.1mg/m3(In)
인산트리에틸 PO(C2H5O)3 50 mg/m3
인산트리메틸 C3H9O3P 2ppm
트리메틸알루미늄(TMAl) Al(CH3)3 2mg/m3(Al)
트리메틸안티몬 Sb(CH3)3 0.5mg/m3(Sb)
트리메틸붕소 B(CH3)3 0.1ppm
트리메틸갈륨(TMGa) Ga(CH3)3 3mg/m3(Ga2O3)
트리메틸인듐(TMIn) In(CH3)3 0.1mg/m3(In)
트리실란 Si3H8 5ppm(SiH4)
육카르보닐텅스텐 W(CO)6 5mg/m3(W)
육플루오르화텅스텐 WF6 1ppm(HF)
이플루오린화제논 XeF2 1ppm(F2)

* 시스템 사양은 개별 공정 응용 분야에 대한 검토와 승인을 바탕으로 합니다.