CLEANSORB 乾燥床吸収体のガス保持性能*

ガスまたは液体の前駆体種化学式出口濃度
アンモニアNH320 ppm
アルシンAsH30.05 ppm
ビス(シクロペンタジエニル)マグネシウムMg(C5H5)23 mg/m3(MgO)
ビス(tert-ブチルアミノ)シランSiH2(NHC4H9)25 ppm(SiH4
三臭化ホウ素BBr31 ppm
三塩化ホウ素BCl31 ppm
三フッ化ホウ素BF30.35 ppm
臭素Br20.1 ppm
一酸化炭素CO30 ppm
塩素Cl20.5 ppm
三フッ化塩素ClF30.1 ppm
ヘキサカルボニルクロムCr(CO)62 mg/m3(Cr)
ジボランB2H60.1 ppm
ジクロロシランSiH2Cl22 ppm(HCl)
テルル化ジエチルTe(C2H5)20.1 mg/m3(Te)
ジエチルアミンC4H11N5 ppm
ジエチル亜鉛(DEZn)Zn(C2H5)22 mg/m3(Zn)
ジゲルマンGe2H60.2 ppm(GeH4
ジメチルジメトキシシランSi(CH3)2(OCH3)25 ppm(SiH4
ジメチルシランSiH2(CH3)25 ppm(SiH4
テルル化ジメチルTe(CH3)20.1 mg/m3(Te)
ジメチルアミンC2H7N2 ppm
ジメチルカドミウムCd(CH3)20.01 mg/m3(Cd)
ジメチルヒドラジン(UDMH)N2H2(CH3)20.01 ppm
ジメチル亜鉛Zn(CH3)22 mg/m3(Zn)
ジシランSi2H65 ppm
エチルメチルアミンC3H9N2 ppm(ジメチルアミン)
フッ素F21 ppm
フッ化ホスゲン / フッ化カルボニルCOF21 ppm(HF)
ホルムアルデヒドCH2O0.3 ppm
ゲルマンGeH40.2 ppm
ヒドラジンN2H40.01 ppm
臭化水素HBr1 ppm
塩化水素HCl2 ppm
フッ化水素HF1 ppm
セレン化水素H2Se0.015 ppm
硫化水素H2S5 ppm
ヨウ素I20.1 ppm
メチルトリクロロシランCH3SiCl32 ppm(HCl)
モノメチルシランSiH3CH35 ppm(SiH4
一酸化窒素NO25 ppm
二酸化窒素N2O4(NO23 ppm
ペンタキス(ジメチルアミノ)タンタル(PDMATa)Ta(N(CH3)2)52 ppm(ジメチルアミン)
ホスゲンCOCl20.02 ppm
ホスフィンPH30.1 ppm
五塩化リンPCl51 mg/m3
三臭化リンPBr30.5 ppm
三塩化リンPCl30.5 ppm
三フッ化リンPF33 ppm
塩化ホスホリルPOCl30.2 ppm
ルテノセンC10H10Ru20 mg/m3(Ru)
シランSiH45 ppm
スチビンSbH30.1 ppm
二酸化硫黄SO20.5 ppm
タンタルエトキシドTa(OC2H5)520 mg/m3(Ta2O5
五塩化タンタルTaCl52 ppm(HCl)
五フッ化タンタルTaF51 ppm(HF)
六フッ化テルルTeF60.02 ppm
ターシャリーブチルアルシン(TBA)AsH2(C4H9)0.01 mg/m3(As)
ターシャリーブチルホスフィン(TBP)PH2(C4H9)0.1 ppm(PH3
四臭化炭素CBr41 ppm(HBr)
テトラカルボニルニッケルNi(CO)40.2 mg/m3(Ni)
四塩化ケイ素SiCl42 ppm(HCl)
オルトケイ酸テトラエチルSi(OC2H5)410 ppm
四フッ化ケイ素SiF41 ppm(HF)
テトラキス(ジメチルアミノ)ハフニウム(TDMAHf)Hf(N(CH3)2)42 ppm(ジメチルアミン)
テトラキス(ジメチルアミノ)チタン(TDMATi)Ti(N(CH3)2)42 ppm(ジメチルアミン)
テトラキス(ジメチルアミノ)ジルコニウム(TDMAZr)Zr(N(CH3)2)42 ppm(ジメチルアミン)
テトラキス(エチルメチルアミノ)ハフニウム(TEMAHf)Hf(NC2H5CH3)42 ppm(ジメチルアミン)
テトラキス(エチルメチルアミノ)ジルコニウム(TEMAZr)Zr(NC2H5CH3)42 ppm(ジメチルアミン)
四塩化チタンTiCl42 ppm(HCl)
四フッ化チタンTiF41 ppm(HF)
三塩化シランSiHCl32 ppm(HCl)
トリエチルアルミニウムAl(C2H5)32 mg/m3(Al)
トリエチルボランB(C2H5)30.5 mg/m3(H3BO3
トリエチルガリウムGa(C2H5)33 mg/m3(Ga2O3
トリエチルインジウムIn(C2H5)30.1 mg/m3(In)
リン酸トリエチルPO(C2H5O)350 mg/m3
亜リン酸トリメチルC3H9O3P2 ppm
トリメチルアルミニウム(TMAl)Al(CH3)32 mg/m3(Al)
トリメチルアンチモンSb(CH3)30.5 mg/m3(Sb)
トリメチルホウ素B(CH3)30.1 ppm
トリメチルガリウム(TMGa)Ga(CH3)33 mg/m3(Ga2O3
トリメチルインジウム(TMIn)In(CH3)30.1 mg/m3(In)
トリシランSi3H85 ppm(SiH4
ヘキサカルボニルタングステンW(CO)65 mg/m3(W)
六フッ化タングステンWF61 ppm(HF)
二フッ化キセノンXeF21 ppm(F2

* システム仕様は、個々のプロセス用途のレビューと承認に基づいています