PERFORMANCE DE RÉTENTION DE GAZ * DES ABSORBANTS À LITS SECS CLEANSORB

Espèces de précurseurs gazeux ou liquidesFormule chimiqueConcentration de sortie
AmmoniacNH320 ppm
ArsineAsH30,05 ppm
Bis(cyclopentadiényl)magnésiumMg(C5H5)23 mg/m3 (MgO)
Bis(tert-butylamino)silaneSiH2(NHC4H9)25 ppm (SiH4)
Tribromure de boreBBr31 ppm
Trichlorure de boreBCl31 ppm
Trifluorure de boreBF30,35 ppm
BromeBr20,1 ppm
Monoxyde de carboneCO30 ppm
ChloreCl20,5 ppm
Trifluorure de chloreClF30,1 ppm
Hexacarbonyle de chromeCr(CO)62 mg/m3 (Cr)
DiboraneB2H60,1 ppm
DichlorosilaneSiH2Cl22 ppm (HCl)
Tellurure de diéthyleTe(C2H5)20,1 mg/m3 (Te)
DiéthylamineC4H11N5 ppm
Diéthylzinc (DEZn)Zn(C2H5)22 mg/m3 (Zn)
DigermaneGe2H60,2 ppm (GeH4)
Diméthyl-diméthoxy-silaneSi(CH3)2(OCH3)25 ppm (SiH4)
Diméthyl-silaneSiH2(CH3)25 ppm (SiH4)
Tellurure de diméthyleTe(CH3)20,1 mg/m3 (Te)
DiméthylamineC2H7N2 ppm
DiméthylcadmiumCd(CH3)20,01 mg/m3 (Zn)
Diméthylhydrazine (UDMH)N2H2(CH3)20,01 ppm
DiméthylzincZn(CH3)22 mg/m3 (Zn)
DisilaneSi2H65 ppm
ÉthylméthylamineC3H9N2 ppm (diméthylamine)
FluorF21 ppm
Fluorophosgène/Fluorure de carbonyleCOF21 ppm (HF)
FormaldéhydeCH2O0,3 ppm
GermaneGeH40,2 ppm
HydrazineN2H40,01 ppm
Bromure d’hydrogèneHBr1 ppm
Chlorure d’hydrogèneHCl2 ppm
Fluorure d’hydrogèneHF1 ppm
Sélénure d’hydrogèneH2Se0,015 ppm
Sulfure d’hydrogèneH2S5 ppm
IodeI20,1 ppm
MéthyltrichlorosilaneCH3SiCl32 ppm (HCl)
Monométhyl silaneSiH3CH35 ppm (SiH4)
Monoxyde d’azoteNO25 ppm
Dioxyde d’azoteN2O4 (NO2)3 ppm
Pentakis(diméthylamino) Tantale (PDMATa)Ta(N(CH3)2)52 ppm (diméthylamine)
PhosgèneCOCl20,02 ppm
PhosphinePH30,1 ppm
Pentachlorure de phosphorePCl51 mg/m3
Tribromure de phosphorePBr30,5 ppm
Trichlorure de phosphorePCl30,5 ppm
Trifluorure de phosphorePF33 ppm
Oxychlorure de phosphorePOCl30,2 ppm
RuthénocèneC10H10Ru20 mg/m3 (Ru)
SilaneSiH45 ppm
StibineSbH30,1 ppm
Dioxyde de soufreSO20,5 ppm
Éthoxyde de tantaleTa(OC2H5)520 mg/m3 (Ta2O5)
Pentachlorure de tantaleTaCl52 ppm (HCl)
Pentafluorure de tantaleTaF51 ppm (HF)
Hexafluorure de tellureTeF60,02 ppm
Tert-butyl-arsine (TBAs)AsH2(C4H9)0,01 mg/m3 (As)
Tert-butyl-phosphine (TBP)PH2(C4H9)0,1 ppm (PH3)
TétrabromométhaneCBr41 ppm (HBr)
TétracarbonylnickelNi(CO)40,2 mg/m3 (Ni)
Tétrachlorure de siliciumSiCl42 ppm (HCl)
Orthosilicate de tétraéthyleSi(OC2H5)410 ppm
Tétrafluorure de siliciumSiF41 ppm (HF)
Tétrakis(diméthylamino)hafnium (TDMAHf)Hf(N(CH3)2)42 ppm (diméthylamine)
Tétrakis(diméthylamino)titane (TDMATi)Ti(N(CH3)2)42 ppm (diméthylamine)
Tétrakis(diméthylamino)zirconium (TDMAZr)Zr(N(CH3)2)42 ppm (diméthylamine)
Tétrakis(éthylméthylamino)hafnium (TEMAHf)Hf(NC2H5CH3)42 ppm (diméthylamine)
Tétrakis(éthylméthylamino)zirconium (TEMAZr)Zr(NC2H5CH3)42 ppm (diméthylamine)
Tétrachlorure de titaneTiCl42 ppm (HCl)
Tétrafluorure de titaneTiF41 ppm (HF)
TrichlorosilaneSiHCl32 ppm (HCl)
TriéthylaluminiumAl(C2H5)32 mg/m3 (Al)
TriéthylboraneB(C2H5)30,5 mg/m3 (H3BO3)
TriéthylgalliumGa(C2H5)33 mg/m3 (Ga2O3)
TriéthylindiumIn(C2H5)30,1 mg/m3 (In)
TriéthylphosphatePO(C2H5O)350 mg/m3
Phosphite de triméthyleC3H9O3P2 ppm
Triméthylaluminium (TMAl)Al(CH3)32 mg/m3 (Al)
TriméthylantimoineSb(CH3)30,5 mg/m3 (Sb)
TriméthylboreB(CH3)30,1 ppm
Triméthylgallium (TMGa)Ga(CH3)33 mg/m3 (Ga2O3)
Triméthylindium (TMIn)In(CH3)30,1 mg/m3 (In)
TrisilaneSi3H85 ppm (SiH4)
Hexacarbonyle de tungstèneW(CO)65 mg/m3 (W)
Hexafluorure de tungstèneWF61 ppm (HF)
Difluorure de xénonXeF21 ppm (F2)

* Les spécifications des systèmes sont soumises à l’examen et à l’approbation de chaque application de procédé