Espèces de précurseurs gazeux ou liquides Formule chimique Concentration de sortie
Ammoniac NH3 20 ppm
Arsine AsH3 0,05 ppm
Bis(cyclopentadiényl)magnésium Mg(C5H5)2 3 mg/m3 (MgO)
Bis(tert-butylamino)silane SiH2(NHC4H9)2 5 ppm (SiH4)
Tribromure de bore BBr3 1 ppm
Trichlorure de bore BCl3 1 ppm
Trifluorure de bore BF3 0,35 ppm
Brome Br2 0,1 ppm
Monoxyde de carbone CO 30 ppm
Chlore Cl2 0,5 ppm
Trifluorure de chlore ClF3 0,1 ppm
Hexacarbonyle de chrome Cr(CO)6 2 mg/m3 (Cr)
Diborane B2H6 0,1 ppm
Dichlorosilane SiH2Cl2 2 ppm (HCl)
Tellurure de diéthyle Te(C2H5)2 0,1 mg/m3 (Te)
Diéthylamine C4H11N 5 ppm
Diéthylzinc (DEZn) Zn(C2H5)2 2 mg/m3 (Zn)
Digermane Ge2H6 0,2 ppm (GeH4)
Diméthyl-diméthoxy-silane Si(CH3)2(OCH3)2 5 ppm (SiH4)
Diméthyl-silane SiH2(CH3)2 5 ppm (SiH4)
Tellurure de diméthyle Te(CH3)2 0,1 mg/m3 (Te)
Diméthylamine C2H7N 2 ppm
Diméthylcadmium Cd(CH3)2 0,01 mg/m3 (Zn)
Diméthylhydrazine (UDMH) N2H2(CH3)2 0,01 ppm
Diméthylzinc Zn(CH3)2 2 mg/m3 (Zn)
Disilane Si2H6 5 ppm
Éthylméthylamine C3H9N 2 ppm (diméthylamine)
Fluor F2 1 ppm
Fluorophosgène/Fluorure de carbonyle COF2 1 ppm (HF)
Formaldéhyde CH2O 0,3 ppm
Germane GeH4 0,2 ppm
Hydrazine N2H4 0,01 ppm
Bromure d’hydrogène HBr 1 ppm
Chlorure d’hydrogène HCl 2 ppm
Fluorure d’hydrogène HF 1 ppm
Sélénure d’hydrogène H2Se 0,015 ppm
Sulfure d’hydrogène H2S 5 ppm
Iode I2 0,1 ppm
Méthyltrichlorosilane CH3SiCl3 2 ppm (HCl)
Monométhyl silane SiH3CH3 5 ppm (SiH4)
Monoxyde d’azote NO 25 ppm
Dioxyde d’azote N2O4 (NO2) 3 ppm
Pentakis(diméthylamino) Tantale (PDMATa) Ta(N(CH3)2)5 2 ppm (diméthylamine)
Phosgène COCl2 0,02 ppm
Phosphine PH3 0,1 ppm
Pentachlorure de phosphore PCl5 1 mg/m3
Tribromure de phosphore PBr3 0,5 ppm
Trichlorure de phosphore PCl3 0,5 ppm
Trifluorure de phosphore PF3 3 ppm
Oxychlorure de phosphore POCl3 0,2 ppm
Ruthénocène C10H10Ru 20 mg/m3 (Ru)
Silane SiH4 5 ppm
Stibine SbH3 0,1 ppm
Dioxyde de soufre SO2 0,5 ppm
Éthoxyde de tantale Ta(OC2H5)5 20 mg/m3 (Ta2O5)
Pentachlorure de tantale TaCl5 2 ppm (HCl)
Pentafluorure de tantale TaF5 1 ppm (HF)
Hexafluorure de tellure TeF6 0,02 ppm
Tert-butyl-arsine (TBAs) AsH2(C4H9) 0,01 mg/m3 (As)
Tert-butyl-phosphine (TBP) PH2(C4H9) 0,1 ppm (PH3)
Tétrabromométhane CBr4 1 ppm (HBr)
Tétracarbonylnickel Ni(CO)4 0,2 mg/m3 (Ni)
Tétrachlorure de silicium SiCl4 2 ppm (HCl)
Orthosilicate de tétraéthyle Si(OC2H5)4 10 ppm
Tétrafluorure de silicium SiF4 1 ppm (HF)
Tétrakis(diméthylamino)hafnium (TDMAHf) Hf(N(CH3)2)4 2 ppm (diméthylamine)
Tétrakis(diméthylamino)titane (TDMATi) Ti(N(CH3)2)4 2 ppm (diméthylamine)
Tétrakis(diméthylamino)zirconium (TDMAZr) Zr(N(CH3)2)4 2 ppm (diméthylamine)
Tétrakis(éthylméthylamino)hafnium (TEMAHf) Hf(NC2H5CH3)4 2 ppm (diméthylamine)
Tétrakis(éthylméthylamino)zirconium (TEMAZr) Zr(NC2H5CH3)4 2 ppm (diméthylamine)
Tétrachlorure de titane TiCl4 2 ppm (HCl)
Tétrafluorure de titane TiF4 1 ppm (HF)
Trichlorosilane SiHCl3 2 ppm (HCl)
Triéthylaluminium Al(C2H5)3 2 mg/m3 (Al)
Triéthylborane B(C2H5)3 0,5 mg/m3 (H3BO3)
Triéthylgallium Ga(C2H5)3 3 mg/m3 (Ga2O3)
Triéthylindium In(C2H5)3 0,1 mg/m3 (In)
Triéthylphosphate PO(C2H5O)3 50 mg/m3
Phosphite de triméthyle C3H9O3P 2 ppm
Triméthylaluminium (TMAl) Al(CH3)3 2 mg/m3 (Al)
Triméthylantimoine Sb(CH3)3 0,5 mg/m3 (Sb)
Triméthylbore B(CH3)3 0,1 ppm
Triméthylgallium (TMGa) Ga(CH3)3 3 mg/m3 (Ga2O3)
Triméthylindium (TMIn) In(CH3)3 0,1 mg/m3 (In)
Trisilane Si3H8 5 ppm (SiH4)
Hexacarbonyle de tungstène W(CO)6 5 mg/m3 (W)
Hexafluorure de tungstène WF6 1 ppm (HF)
Difluorure de xénon XeF2 1 ppm (F2)

* Les spécifications des systèmes sont soumises à l’examen et à l’approbation de chaque application de procédé