EFICACIA EN LA RETENCIÓN DE GASES* DE LOS ABSORBEDORES DE LECHO SECO CLEANSORB *
| Precursor líquido o gaseoso | Fórmula química | Concentración en la salida |
|---|---|---|
| Amoníaco | NH3 | 20 ppm |
| Arsano | AsH3 | 0,05 ppm |
| Bis(ciclopentadienilo)magnesio | Mg(C5H5)2 | 3 mg/m3 (MgO) |
| Bis(terc-butilamina)silano | SiH2(NHC4H9)2 | 5 ppm (SiH4) |
| Tribromuro de boro | BBr3 | 1 ppm |
| Triclururo de boro | BCl3 | 1 ppm |
| Trifluoruro de boro | BF3 | 0,35 ppm |
| Bromo | Br2 | 0,1 ppm |
| Monóxido de carbono | CO | 30 ppm |
| Cloro | Cl2 | 0,5 ppm |
| Trifluoruro de cloro | ClF3 | 0,1 ppm |
| Hexacarbonilo de cromo | Cr(CO)6 | 2 mg/m3 (Cr) |
| Diborano | B2H6 | 0,1 ppm |
| Diclorosilano | SiH2Cl2 | 2 ppm (HCl) |
| Dietiltelurio | Te(C2H5)2 | 0,1 mg/m3 (Te) |
| Dietilamina | C4H11N | 5 ppm |
| Dietilzinc (DEZn) | Zn(C2H5)2 | 2 mg/m3 (Zn) |
| Digermanio | Ge2H6 | 0,2 ppm (GeH4) |
| Dimetil dimetoxisilano | Si(CH3)2(OCH3)2 | 5 ppm (SiH4) |
| Dimetilsilano | SiH2(CH3)2 | 5 ppm (SiH4) |
| Dimetiltelurio | Te(CH3)2 | 0,1 mg/m3 (Te) |
| Dimetilamina | C2H7N | 2 ppm |
| Dimetilcadmio | Cd(CH3)2 | 0,01 mg/m3 (Cd) |
| Dimetilhidrazina (UDMH) | N2H2(CH3)2 | 0,01 ppm |
| Dimetilzinc | Zn(CH3)2 | 2 mg/m3 (Zn) |
| Disilano | Si2H6 | 5 ppm |
| Etilmetilamina | C3H9N | 2 ppm (dimetilamina) |
| Flúor | F2 | 1 ppm |
| Fluorofosgeno/fluoruro de carbonilo | COF2 | 1 ppm (HF) |
| Formaldehído | CH2O | 0,3 ppm |
| Germano | GeH4 | 0,2 ppm |
| Hidrazina | N2H4 | 0,01 ppm |
| Bromuro de hidrógeno | HBr | 1 ppm |
| Cloruro de hidrógeno | HCl | 2 ppm |
| Fluoruro de hidrógeno | HF | 1 ppm |
| Seleniuro de hidrógeno | H2Se | 0,015 ppm |
| Sulfuro de hidrógeno | H2S | 5 ppm |
| Yodo | I2 | 0,1 ppm |
| Metiltriclorosilano | CH3SiCl3 | 2 ppm (HCl) |
| Monometilsilano | SiH3CH3 | 5 ppm (SiH4) |
| Monóxido de nitrógeno | NO | 25 ppm |
| Dióxido de nitrógeno | N2O4 (NO2) | 3 ppm |
| Pentakis(dimetilamino)tantalio (PDMATa) | Ta(N(CH3)2)5 | 2 ppm (dimetilamina) |
| Fosgeno | COCl2 | 0,02 ppm |
| Fosfano | PH3 | 0,1 ppm |
| Pentacloruro de fósforo | PCl5 | 1 mg/m3 |
| Tribromuro de fósforo | PBr3 | 0,5 ppm |
| Tricloruro de fósforo | PCl3 | 0,5 ppm |
| Trifluoruro de fósforo | PF3 | 3 ppm |
| Cloruro de fosforilo | POCl3 | 0,2 ppm |
| Rutenoceno | C10H10Ru | 20 mg/m3 (Ru) |
| Silano | SiH4 | 5 ppm |
| Estibano | SbH3 | 0,1 ppm |
| Dióxido de azufre | SO2 | 0,5 ppm |
| Etóxido de tantalio | Ta(OC2H5)5 | 20 mg/m3 (Ta2O5) |
| Pentacloruro de tantalio | TaCl5 | 2 ppm (HCl) |
| Pentafluoruro de tantalio | TaF5 | 1 ppm (HF) |
| Hexafluoruro de teluro | TeF6 | 0,02 ppm |
| Terc-butilarsina (TBAs) | AsH2(C4H9) | 0,01 mg/m3 (As) |
| Terc-butilfosfina (TBP) | PH2(C4H9) | 0,1 ppm (PH3) |
| Tetrabromometano | CBr4 | 1 ppm (HBr) |
| Tetracarbonilo de níquel | Ni(CO)4 | 0,2 mg/m3 (Ni) |
| Tetracloruro de silicio | SiCl4 | 2 ppm (HCl) |
| Tetraetil ortosilicato | Si(OC2H5)4 | 10 ppm |
| Tetrafluoruro de silicio | SiF4 | 1 ppm (HF) |
| Tetrakis(dimetilamimo)hafnio (TDMAHf) | Hf(N(CH3)2)4 | 2 ppm (dimetilamina) |
| Tetrakis(dimetilamimo)titanio (TDMATi) | Ti(N(CH3)2)4 | 2 ppm (dimetilamina) |
| Tetrakis(dimetilamimo)zirconio (TDMAZr) | Zr(N(CH3)2)4 | 2 ppm (dimetilamina) |
| Tetrakis(etilmetilamino)hafnio (TEMAHf) | Hf(NC2H5CH3)4 | 2 ppm (dimetilamina) |
| Tetrakis(etilmetilamino)zirconio (TEMAZr) | Zr(NC2H5CH3)4 | 2 ppm (dimetilamina) |
| Tetracloruro de titanio | TiCl4 | 2 ppm (HCl) |
| Tetrafluoruro de titanio | TiF4 | 1 ppm (HF) |
| Triclorosilano | SiHCl3 | 2 ppm (HCl) |
| Trietilaluminio | Al(C2H5)3 | 2 mg/m3 (Al) |
| Trietilborano | B(C2H5)3 | 0,5 mg/m3 ( H3BO3) |
| Trietilgalio | Ga(C2H5)3 | 3 mg/m3 (Ga2O3) |
| Trietilindio | In(C2H5)3 | 0,1 mg/m3 (In) |
| Trietilfosfato | PO(C2H5O)3 | 50 mg/m3 |
| Trimetilfosfito | C3H9O3P | 2 ppm |
| Trimetilaluminio (TMAl) | Al(CH3)3 | 2 mg/m3 (Al) |
| Trimetilantimonio | Sb(CH3)3 | 0,5 mg/m3 (Sb) |
| Trimetilboro | B(CH3)3 | 0,1 ppm |
| Trimetilgalio (TMGa) | Ga(CH3)3 | 3 mg/m3 (Ga2O3) |
| Trimetilindio (TMIn) | In(CH3)3 | 0,1 mg/m3 (In) |
| Trisilano | Si3H8 | 5 ppm (SiH4) |
| Hexacarbonilo de wolframio | W(CO)6 | 5 mg/m3 (W) |
| Hexafluoruro de wolframio | WF6 | 1 ppm (HF) |
| Difluoruro de xenón | XeF2 | 1 ppm (F2) |
* Die Konfiguration des Absorbers richtet sich nach der jeweiligen Prozessapplikation
